據(jù)報(bào)道，東方晶源最新推出的DR-SEM r655產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)了多項(xiàng)技術(shù)升級(jí)。新一代設(shè)備配備了高性能電子槍、光學(xué)檢測模組以及升級(jí)版?zhèn)髌到y(tǒng)和算法系統(tǒng)，成功突破了一系列技術(shù)瓶頸，能夠滿足國內(nèi)先進(jìn)制程產(chǎn)線的應(yīng)用需求。
電子束檢測成像技術(shù)方面，r655搭載5通道探測器，覆蓋了更廣泛的檢測需求。4個(gè)側(cè)向探測器支持全角度形貌掃描，顯著提升了缺陷立體成像效果，尤其在淺刮傷等微小缺陷的復(fù)檢中表現(xiàn)出色。頂端探測器則增強(qiáng)了背散射電子信號(hào)接收能力，精準(zhǔn)捕捉材料襯度差異，滿足先進(jìn)制程的多種場景需求。此外，設(shè)備還適配高深寬比結(jié)構(gòu)檢測，性能可與國際成熟機(jī)型媲美。
光學(xué)檢測方面，r655通過兩項(xiàng)核心改進(jìn)實(shí)現(xiàn)了靈敏度的突破。其優(yōu)化后的光路設(shè)計(jì)縮小了與目標(biāo)缺陷尺寸的檢測差距，同時(shí)基于自研光路和國產(chǎn)深紫外激光源，光學(xué)檢測靈敏度提升至20nm，未來還具備進(jìn)一步優(yōu)化的潛力。
在效能方面，r655通過平臺(tái)級(jí)升級(jí)全面優(yōu)化了晶圓吞吐效率。新設(shè)備縮短了晶圓傳輸時(shí)間，并配合新一代電子光學(xué)系統(tǒng)加速缺陷抓取，處理速度接近國際一線設(shè)備水平。模塊化擴(kuò)展設(shè)計(jì)則支持多種選配模組和升級(jí)需求，確保設(shè)備在先進(jìn)制程中具備長期競爭力。

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