如何使用JavaScript創建一只圖像放大鏡？
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雖然整體半導體產業面臨趨緩，但用于曝光制程的光罩護膜（pellicle）仍維持供不應求。隨著美國對國內半導體產業制裁的加深，國內IC設計及晶圓代工業者數量增加，以及全球AI半導體新創企業的涌現，光罩護膜的需求大幅增長。
主要光罩護膜供應商如Topan、Portronics、DNP等工廠稼動率皆維持在100%水準，部分國內IC設計及晶圓代工業者更支付額外費用，以期縮短交貨時間。然而，由于需求高漲，主要供應商的產能已接近極限，預計即使在需求增加的情況下，短期內仍難以滿足市場需求。
光罩護膜在半導體曝光制程中起到防止光罩上的灰塵或其他污染物對光罩造成損傷的作用。隨著制程技術的進步和美國制裁的影響，國內半導體產業正在大規模擴張，對光罩護膜的需求也隨之大幅增加。
另外，中芯國際透過深紫外光（DUV）設備量產7納米制程，相較極紫外光（EUV）制程，在部分圖案化（patterning）過程需使用3~5倍的光罩護膜量。同時，隨著ChatGPT等AI服務正式商用化，各式業者開始投入AI半導體研發，從邊緣用到服務器用AI半導體，相關新創企業也大量登場，進一步推高了光罩護膜的需求。
盡管主要供應商如Topan、Portronics、DNP等正在積極擴大產能，但業界人士表示，預計即使在需求增加的情況下，短期內仍難以滿足市場需求。隨著需求增加，石英價格也在上漲，預計2024年光罩價格上調可能性高。
因此，盡管整體半導體產業面臨趨緩，但光罩護膜市場仍然供不應求。主要供應商需要繼續擴大產能并改進生產工藝以滿足不斷增長的需求。同時，對于國內IC設計及晶圓代工業者而言，需要密切關注市場動態并提前規劃以應對潛在的市場變化。
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