石頭自清潔掃拖機器人G10S評測：多年黑科技集大成之作 懶人終極福音
科技圈經(jīng)常能看到一個詞叫“縫合怪”，用來形容那些把好多功能或者外觀結(jié)合在一起的產(chǎn)品，通常這樣的詞是貶義詞，但如果真的是產(chǎn)品縫合的好、縫合的實用的話，那它就成了中性詞，今
在國內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)中，光刻機技術(shù)一直是制約發(fā)展的關(guān)鍵。在沒有ASML提供浸潤式光刻機和EUV光刻機的情況下，國產(chǎn)光刻機難以在7nm以下取得突破。
近年來，國內(nèi)頻繁傳出光刻機突破的消息，但關(guān)鍵問題在于核心部件的國產(chǎn)化進展如何？
光刻技術(shù)是在特定波長的光照下，借助光刻膠將圖形轉(zhuǎn)移到基片上的工藝。核心部件包括光源系統(tǒng)、物鏡系統(tǒng)和雙工作臺。
光源系統(tǒng)使用193nm波長的深紫外線，目前上海微電子的90nm光刻機也采用了193nm波長，支持最高達到7nm。
物鏡系統(tǒng)是真正的難點，ASML使用的是由卡爾蔡司提供的，目前國產(chǎn)光刻機的物鏡系統(tǒng)尚處于90nm水平，但據(jù)稱長春光電所的物鏡系統(tǒng)已經(jīng)達到32nm，尚待確認是否已應用于光刻機。
在物鏡系統(tǒng)方面，國內(nèi)與ASML仍存在較大差距，可能是限制國產(chǎn)光刻機突破的重要因素之一。克服這一挑戰(zhàn)，將是國產(chǎn)光刻機向前邁進的重要一步。
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