據報道，荷蘭半導體設備制造商ASML近日宣布，計劃將其在日本的極紫外光（EUV）芯片工具相關員工人數增加五倍。
ASML的EUV技術被認為是制造下一代高性能芯片的核心。隨著全球對高性能芯片需求的快速增長，ASML的擴張不僅能提升其在日本的業務能力，還將助力日本半導體產業的技術升級與人才培養。與此同時，日本本土半導體企業Rapidus正計劃啟動2納米工藝的試產，預計本月開始，并力求在2027年前實現全面量產。
ASML的擴張計劃正值日本加大對半導體制造領域投入的關鍵時期，此舉也被視為對日本市場潛力的充分肯定。

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