對標(biāo)蘋果的靈動島 華為帶來實況窗功能
繼蘋果的靈動島之后，華為也在今天正式推出了“實況窗”功能。據(jù)今天鴻蒙OS 4.0的現(xiàn)場演示顯示，華為的實況窗可以更高效的展現(xiàn)出實時通知，比如鎖屏上就能看到外賣、打車、銀行
快科技12月7日消息，前不久日本斷供光刻膠的消息引發(fā)關(guān)注，雖然日本方面否認了傳聞，但在光刻膠領(lǐng)域，日本公司確實卡了大部分半導(dǎo)體公司的脖子。
尤其是在先進的EUV光刻膠領(lǐng)域，目前主要掌握在日本JSR、信越化學(xué)、東京應(yīng)化TOK等公司手中，前幾年日本與韓國爆發(fā)爭端之后，日本就停止過對韓出口光刻膠等三種關(guān)鍵材料。
這幾年中韓國也一直在加大對半導(dǎo)體核心技術(shù)與材料的國產(chǎn)化，之前有說法稱韓國已經(jīng)解決了EUV光刻膠，實際上并不是，所謂的解決只是日本公司為了繞過政策限制，對韓出口從本土改為海外公司供貨而已，韓國三星、SK海力士等公司依然依賴日本公司EUV光刻膠供應(yīng)。
相比三星，SK海力士主要是生產(chǎn)存儲芯片，此前對EUV光刻膠需求不算高，但是隨著工藝的提升，內(nèi)存芯片也要大量使用EUV光刻工藝，為此他們也聯(lián)合韓國的東進世美肯公司合作開發(fā)EUV光刻膠。
雙方合作的產(chǎn)品目標(biāo)不僅是取代日本公司的EUV光刻膠，而且還要在性能上超越日本產(chǎn)品，特別是光敏性，以便提高生產(chǎn)效率。
光刻膠的光敏性越強，所需的曝光時間就會越短，因此生產(chǎn)效率會更高，即便是同樣的EUV光刻機，先進EUV光刻膠生產(chǎn)能力也是不同的。
隨著內(nèi)存芯片不斷逼近10nm甚至在10nm以下，所需的EUV光刻層數(shù)也在不斷增加，第七代1d工藝已經(jīng)需要7層EUV了，未來只會繼續(xù)增加。
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