日前,尼康宣布推出新一代具有5倍縮小投影倍率的i-line步進式光刻機“NSR-2205iL1”,預計2024年夏季上市,代表了尼康5倍步進技術在過去25年中最重大的更新。

光刻機作為半導體最核心設備,已成為全球科技界關注焦點。據媒體此前報道,上海微電子設備(集團)有限公司正在致力于研發28納米浸沒式光刻機,預計在2023年底將國產第一臺SSA/800-10W光刻機設備交付市場。研究機構指出,通過浸沒式光刻機,以及雙重曝光、多重曝光、計算光刻等技術,理論上可以用DUV制造7納米工藝芯片。

公司方面,萬潤股份積極布局聚酰亞胺材料、半導體制造材料等其他電子信息材料領域,持續豐富電子信息材料產品線;福光股份是航天級高端鏡頭以及軍用光學核心供應商,研發了光刻機等半導體設備的鏡頭產品。
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