一加Ace2 Pro真機揭曉 鈦空灰配色質感拉滿
終于，在經過了幾波預熱之后，一加Ace2 Pro的外觀真機圖在網上出現了。還是博主數碼閑聊站曝光的，這次的外觀設計還是延續了一加11的方案，只是細節上有了調整，例如新加入了鈦空灰
在半導體領域的合作浪潮中，三星電子與ASML宣布達成一項重要備忘錄，將聯手投資1兆韓元，在韓國設立先進半導體制程技術研究中心。此次合作還將利用下一代極紫外（EUV）曝光機進行深入研究。
與此同時，ASML還與SK海力士簽署了環境、社會和公司治理（ESG）備忘錄，雙方將在多個領域展開合作。這一消息表明了半導體行業內強大的跨界合作趨勢。
上個月初的消息曝光，揭示了三星電子計劃在未來五年內從ASML采購50套設備，每套設備約價2,000億韓圜，總價值可達10兆韓元。這顯示了三星電子對于EUV曝光機的強烈需求，以應對其全球首個采用全柵極（GAA）技術的3奈米半導體晶片制程技術。
三星電子的戰略目標是在2024年上半年實現第二代3奈米制程技術，并在2025年進入2奈米制程技術，最終在2027年達到1.4奈米半導體制程技術領域。為了實現這一目標，三星電子與ASML的合作成為關鍵一環。
值得關注的是，ASML計劃在2023年底前發布首臺商用High-NA（NA=0.55）EUV曝光機，預計2025年開始量產。這將使客戶能夠從傳統EUV多重圖案化轉向High-NA EUV單一圖案化，降低制程成本，提高產量。目前，ASML已鎖定包括英特爾、臺積電、SK海力士、美光等在內的五大客戶。
三星電子與ASML的合作不僅在技術領域展現出強大合作潛力，同時也為半導體行業的未來發展注入了新的動力。
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