大連創(chuàng)銳光譜科技宣布,他們的無(wú)損光學(xué)檢測(cè)技術(shù)取得了突破性進(jìn)展,同時(shí)推出專(zhuān)用設(shè)備SIC-SUB-9900。該設(shè)備采用瞬態(tài)激發(fā)和散射光譜原理,結(jié)合AI識(shí)別,能高速、精準(zhǔn)地?zé)o損檢測(cè)碳化硅(SiC)襯底晶圓位錯(cuò)缺陷。
相較于傳統(tǒng)X光形貌分析技術(shù),SIC-SUB-9900操作簡(jiǎn)單、檢測(cè)速度快,性?xún)r(jià)比更高。通過(guò)大面積成像,該設(shè)備在檢測(cè)速度上實(shí)現(xiàn)了質(zhì)的飛躍,對(duì)于6吋晶圓樣品,最快檢測(cè)時(shí)間不到17分鐘。
位錯(cuò)缺陷是SiC襯底晶圓質(zhì)量的關(guān)鍵指標(biāo),直接影響外延層的質(zhì)量和芯片的良率。因此,SIC-SUB-9900的精準(zhǔn)檢測(cè)、識(shí)別和統(tǒng)計(jì)功能對(duì)襯底晶圓生產(chǎn)至關(guān)重要。
創(chuàng)銳光譜創(chuàng)立于2016年,以自主技術(shù)為基礎(chǔ),專(zhuān)注科學(xué)儀器和半導(dǎo)體材料檢測(cè)領(lǐng)域。今年早些時(shí)候,SiC-MAPPING532系統(tǒng)成功下線,成為全球首臺(tái)套基于瞬態(tài)光譜技術(shù)的第三代半導(dǎo)體缺陷檢測(cè)設(shè)備,取得了國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)口產(chǎn)品的巨大成功。
創(chuàng)銳光譜的不斷創(chuàng)新和發(fā)展也在吸引資金。今年5月,公司宣布完成數(shù)千萬(wàn)元天使輪融資,由君聯(lián)資本獨(dú)家投資,用于新技術(shù)開(kāi)發(fā)和檢測(cè)設(shè)備量產(chǎn)。
這一新聞揭示了國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體市場(chǎng)對(duì)本土檢測(cè)設(shè)備的日益關(guān)注,同時(shí)也反映出半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備本土化是一個(gè)不可避免的趨勢(shì)。在這個(gè)快速增長(zhǎng)的市場(chǎng)中,國(guó)產(chǎn)技術(shù)逐步獲得認(rèn)可,為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的可持續(xù)發(fā)展注入了新的活力。
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