半導(dǎo)體絕緣層材料成本高且已成為傳輸速率的瓶頸。隨著AI技術(shù)蓬勃發(fā)展,大型數(shù)據(jù)中心競(jìng)賽持續(xù),能耗與數(shù)據(jù)傳輸速率需求激增。
NVIDIA超級(jí)AI芯片傳輸速率已提升至224 Gbps,并向448 Gbps邁進(jìn),但散熱與互連速率瓶頸凸顯。高效能導(dǎo)致高耗電,提升芯片及服務(wù)器溫度,降低效能。因此,需同時(shí)擴(kuò)充能源供給與降低能耗。
整個(gè)供應(yīng)鏈都在尋求突破,其中絕緣層材料成為關(guān)鍵。低介電常數(shù)(k值)材料能降低能耗,提升數(shù)據(jù)速率。然而,目前主流絕緣材料k值多在3以上,遠(yuǎn)非理想值1。
新創(chuàng)企業(yè)已研發(fā)出k值接近2的材料,獲日本廠商關(guān)注,并有芯片實(shí)測(cè)結(jié)果。
引入新材料需經(jīng)過(guò)嚴(yán)格測(cè)試,確保其物性與化性穩(wěn)定,且與現(xiàn)有制造流程兼容。盡管面臨挑戰(zhàn),但新材料商機(jī)巨大。PCB市場(chǎng)年增長(zhǎng)率約9%,絕緣層材料占比40%。
半導(dǎo)體封裝市場(chǎng)年增長(zhǎng)率達(dá)15%,2025年先進(jìn)封裝將超傳統(tǒng)封裝,AI驅(qū)動(dòng)的高端芯片封裝市場(chǎng)高速成長(zhǎng)。因此,絕緣層材料革新將助力AI運(yùn)算互連效能提升,迎來(lái)廣闊發(fā)展前景。
本文鏈接:http://m.www897cc.com/showinfo-27-137053-0.html絕緣層材料革新:突破AI運(yùn)算互連效能瓶頸
聲明:本網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容旨在傳播知識(shí),若有侵權(quán)等問(wèn)題請(qǐng)及時(shí)與本網(wǎng)聯(lián)系,我們將在第一時(shí)間刪除處理。郵件:2376512515@qq.com