快科技8月31日消息,作為全球大也是先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠,臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手,但面臨的壓力也不斷增加,不可避免地進(jìn)入了世界變局中。
臺(tái)積電新的2nm工藝將于今年底量產(chǎn),明年會(huì)大規(guī)模推廣,除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外,28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)。
日前有報(bào)道稱,臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的半導(dǎo)體供應(yīng)商,雖然沒有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響,但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割,要么使用當(dāng)?shù)氐墓?yīng)商,要么選擇美歐日韓等海外供應(yīng)商。
臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó),美國(guó)的芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。
不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注,美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備,但在國(guó)內(nèi)的芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率,與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作。
在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域,國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展,除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息,刻蝕機(jī)、清洗、涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角,甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。
對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō),在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本,同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)。

本文鏈接:http://m.www897cc.com/showinfo-24-179550-0.html2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
聲明:本網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容旨在傳播知識(shí),若有侵權(quán)等問(wèn)題請(qǐng)及時(shí)與本網(wǎng)聯(lián)系,我們將在第一時(shí)間刪除處理。郵件:2376512515@qq.com
上一篇: 黃仁勛:Blackwell GPU或?qū)⑦M(jìn)入中國(guó)市場(chǎng)
下一篇: 與國(guó)產(chǎn)AI分裂 NVIDIA強(qiáng)AI顯卡GB300強(qiáng)化FP4:能效暴增50倍